Toshiba plant Flash-Speicher im 30-Nanometer-Prozess

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Das japanische Unternehmen plant im hart umkämpften Speicherchipmarkt bis zum Jahre 2010 mit 30-Nanometer-Produkten aufzutrumpfen.

Elektronikkonzern Toshiba plant sich von seiner Konkurrenz absetzen und möchte dazu neue Herstellungsverfahren ankurbeln. Durch den 30-Nanometer-Prozess sollen noch leistungsstärkere Chips hergestellt werden. Toshiba ist der weltweit zweitgrößte Hersteller von Flash-Speicherchips. Die Halbleiter-Produkte sind vor allem für ihre Robustheit und Unempfindlichkeit gegenüber äußeren Bedingungen und Erschütterungen bekannt.

Mit der Verkleinerung der einzelnen Bauteile sollen höhere Kapazitäten bei den Storage-Lösungen erreicht werden. “Unser Ziel ist es, gegenüber den Wettbewerbern einen Vorsprung im Feld der fortgeschrittensten Chips zu schaffen”, begründet eine Toshiba-Sprecherin laut einer Meldung der APA. Die 30-Nanometer-Flashspeicher sollen ab März 2010 zu haben sein. Ab März nächsten Jahres möchte Toshiba bereits mit der Herstellung von 43-Nanometer-Chips in seinem Werk in Yokkaichi beginnen.

Die Nanometer-Anzahl gibt die Größe der kleinsten verwendeten Bestandteile des Halbleiterprodukts an. (mr)

Bild: Toshiba

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